인사말
특징 연혁 | 2016. 01 | 이온빔 소스 해외(일본) 수출 |
| 2015. 01 | 이온빔 소스 Fine Tech Japan 참가, 미국 특허 등록 |
| 2014. 01 | 특허청 지원 사업(IP 지원 사업, 수출 분쟁 컨설팅 지원 사업) 선정 |
| 2013. 01 | 산화물 보호 박막 공정 개발 |
| 2012. 01 | 세라믹 기판용 양산장비 개발 |
| 2011. 01 | 양산용 이온빔 소스(1,200 mm) 생산라인 투입 및 가동 시험 |
| 2010. 01 | 이온빔 소스 시작품 제작 완료 |
| 2009. 01 | 부설연구소 설립 |
| 2008. 01 | 화인솔루션 설립 (이온빔 소스 및 플라즈마 복합기 전문기업) |
주요 제품 및 기술
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| 품명 | Vacuum Component (진공 부품) |
| 특징 | Ion Source는?
플라즈마 내의 원하는 이온을 외부로 방출시키는 장치 기능 : 화학 반응, 이온빔 보조, 스퍼터링, 이온 주입 등 응용 : 다양한 연구 실험 및 산업 분야 기존의 이온 소스는 불순물이 발생하는 구조 - 이온 소스로부터 이온이 방출하는 초기 메커니즘은 확산 원리에 의한 구동 불순물 발생이 없는 구조 - FPG 이온 소스로부터 이온이 방출하는 초기 메커니즘은 전자기장에 의한 구동 방향성을 가질 수 있는 이온 빔 - FPG 이온빔 소스는 Whenelt Mask에 의해 이온빔 형상 제어 |
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| 품명 | Vacuum Component (진공 부품) |
| 특징 | 공간 효용성을 높일 수 있는 다중 이온 빔 형태
- FPG 이온빔 소스는 다수의 폐 루프 이온빔 구현 가능 |
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| 품명 | Vacuum Component (진공 부품) |
| 특징 | Energy controlled ion source |
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| 품명 | Vacuum Equipment (진공 설비) |
| 특징 | 최적의 목표 공정 달성을 위한 박막 제조 장비 개발 및 컨셉 확립, 최적의 요소 기술 제공 |
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| 품명 | Thin film coating(박막 코팅) |
| 특징 | 최적의 목표 공정 달성을 위한 박막 제조 장비 개발 및 장비 운용 기술, 공정 요소 기술 제공 |
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| 품명 | Liner type ion beam source(이온빔 소스) |
| 특징 | Model. FPG-L100S
단일 선형 이온빔은 대면적 기판뿐만 아니라 Sheet 형태의 기판 표면 개질 또는 식각 등의 공정에 적용될 수 있으며, 박막 증착 공정 시 전처리, 박막에 대한 이온빔 처리, 이온빔 보조 증착 등의 공정에 적용될 수 있음. |
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| 품명 | Liner type ion beam source(이온빔 소스) |
| 특징 | Model. FPG-L150S
단일 선형 이온빔은 대면적 기판뿐만 아니라 Sheet 형태의 기판 표면 개질 또는 식각 등의 공정에 적용될 수 있으며, 박막 증착 공정 시 전처리, 박막에 대한 이온빔 처리, 이온빔 보조 증착 등의 산업용 양산 공정에 적용될 수 있음. |
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| 품명 | Liner type ion beam source(이온빔 소스) |
| 특징 | Model. FPG-L180D
두 개의 선형 이온빔은 In-line 또는 Roll to roll Sputter에 장착하여 기판의 표면 개질 또는 전처리, 박막의 이온빔 보조 증착 등의 산업용 양산 공정에 적용할 수 있을 뿐만 아니라 광학용 박막 코팅 공정에도 적용할 수 있는 제품임. |
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| 품명 | Liner type ion beam source(이온빔 소스) |
| 특징 | Model. FPG-L220D
두 개의 선형 이온빔은 기판의 표면 식각뿐만 아니라, In-line 또는 Roll to roll Sputter에 장착하여 기판의 표면 개질 또는 전처리, 박막의 이온빔 처리, 이온빔 보조 증착 등의 산업용 양산 공정에 적용할 수 있으며, 광학용 박막 코팅 공정에도 적용할 수 있음. |
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| 품명 | Circular type ion beam source |
| 특징 | Model. FPG-C100S
원형 이온빔은 Evaporator 또는 Sputter 장비에 장착하여 기판의 표면 개질 또는 전처리, 이온빔 보조 증착 등의 기초 연구에 적용할 수 있음. |
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| 품명 | Circular type ion beam source |
| 특징 | Model. FPG-C250T
삼중 원형 이온빔은 Evaporator 또는 Sputter 장비에 장착하여 기판의 표면 개질 또는 전처리, 이온빔 보조 증착, 이온빔 스퍼터링 등의 기초 연구에 적용할 수 있을 뿐만 아니라 광학용 박막 코팅 공정에도 적용할 수 있는 제품임. |
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| 품명 | Circular type ion beam source |
| 특징 | Model. FPG-C170D
이중 원형 이온빔은 Evaporator 또는 Sputter 장비에 장착하여 기판의 표면 개질 또는 전처리, 이온빔 보조 증착 등의 기초 연구에 적용할 수 있음. |
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| 품명 | Circular type ion beam source |
| 특징 | Model. FPG-C320Q
사중 원형 이온빔은 Evaporator 또는 Sputter 장비에 장착하여 기판의 표면 개질 또는 전처리, 이온빔 보조 증착, 이온빔 스퍼터링 등의 기초 연구에 적용할 수 있을 뿐만 아니라 광학용 박막 코팅 공정에도 적용할 수 있는 제품임. |
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